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電子工業(yè)專用設備雜志 部級期刊

主管單位：中國電子科技集團公司  主辦單位：中國電子科技集團公司第四十五研究所

雙月刊  審稿周期：預計1個月內(nèi)  全年訂價：￥256.00

《電子工業(yè)專用設備》由葛勱翀擔任主編，創(chuàng)刊于1971年，由中國電子科技集團公司主管、中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦的一本電子領域專業(yè)期刊。主要刊載該領域內(nèi)的原創(chuàng)性研究論文、綜述和評論等，力求及時、準確、全面的反映該領域的政策、技術、應用市場及動態(tài)。

  • 62-1077/TN 國內(nèi)刊號
  • 1004-4507 國際刊號
  • 1954 發(fā)文量
  • 0.19 影響因子
  • 3109 總被引量
  • 1971 創(chuàng)刊時間

電子工業(yè)專用設備期刊信息

  • 出版語言：中文
  • 創(chuàng)刊時間：1971年
  • 國際刊號：1004-4507
  • 曾用名：半導體設備
  • 紙張開本：A4
  • 國內(nèi)刊號：62-1077/TN
  • 出版地區(qū)：北京
  • 發(fā)行周期：雙月刊

電子工業(yè)專用設備期刊榮譽

電子工業(yè)專用設備投稿須知

1.關鍵詞：一般每篇論文標引2～5個關鍵詞。請盡量使用美國國立醫(yī)學圖書館編輯的最新版IndexMedicus中醫(yī)學主題詞表(MesH)內(nèi)所列的詞。必要時，可采用習用的自由詞并排列于最后。

2.正文按“前言、資料(對象)與方法、結果、討論”的順序書寫，為一級標題；以下各級小標題按照：一、(一)、１．安排序號。

3.注釋一律采用腳注。腳注用小五宋體，包括文獻作者、文獻題名、出版社及出版年或期刊的年（卷）、起止頁碼，用帶圓圈的阿拉伯數(shù)字序號標注，每頁單獨編號。

4.作者須按作圖數(shù)據(jù)繪圖。曲線一般經(jīng)曲線擬合并盡可能“直線化”，如通過對數(shù)、倒數(shù)等轉換，直線應根據(jù)回歸方程繪圖。

5.本刊自發(fā)表之日起，如無電子版、網(wǎng)絡版、有聲版等方面的特殊說明，即視作投稿者同意授權本刊電子版、網(wǎng)絡版、有聲版等的復制權、匯編權、翻譯權、信息網(wǎng)絡傳播權及其轉授權等專著權。

電子工業(yè)專用設備編輯部聯(lián)系方式

地址：北京市朝陽區(qū)安貞西里26號浙江大廈913室

郵編：100029

主編：葛勱翀

電子工業(yè)專用設備發(fā)文選摘

  • 1、扇出型晶圓級封裝技術及其在移動設備中的應用

    作者：郭昌宏; 李習周

  • 2、銀合金鍵合線IMC的實驗檢查方法研究

    作者：楊千棟

  • 3、芯片鍵合設備圖像識別模塊的研究與設計

    作者：高岳; 楊帆; 齊昊姝; 戴豪

  • 4、針對20μm及以下間距的微凸塊工藝缺陷檢測的研究方法——基于輪廓測量術的三維錫膏檢測設備的研究與分析

    作者：M.Liebens; J.Slabbekoorn; A.Miller; E.Beyne; M.Stoerring; S.Hiebert; A.Cross

  • 5、小型微組裝生產(chǎn)線建設方案

    作者：徐璞

  • 6、光電耦合器封裝用環(huán)氧塑封料的制備

    作者：段楊楊; 譚偉; 李蘭俠; 蔣小娟; 劉紅杰; 成興明; 范丹丹

  • 7、制取高濃度臭氧超凈水方法及其設備

    作者：白敏菂; 何葉; 楊波

  • 8、晶圓激光劃片技術簡析

    作者：高愛梅; 張永昌; 鄧勝強

  • 9、基于Fluent的半導體濕法腐蝕過程中的廢氣排放流場研究

    作者：李燕玲; 黃鑫亮; 王勇威; 郭立剛; 王文麗; 夏楠君

  • 10、硅晶片電阻率測量技術的研究

    作者：秦偉亮; 常耀輝; 戚紅英; 竇連水

電子工業(yè)專用設備期刊評價分析

年發(fā)文量和被引次數(shù)
影響因子和立即指數(shù)

電子工業(yè)專用設備期刊評價報告

年份 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022
被引次數(shù) 258 268 266 287 232 274 301 272 337 318
影響因子 0.12 0.15 0.11 0.09 0.09 0.1 0.23 0.22 0.3 0.38
立即指數(shù) 0.03 0.03 0.02 0.03 0.01 0.01 0.02 0.03 0.04 0.04
發(fā)文量 199 229 230 196 98 102 95 90 90 91
被引半衰期 5.87 5.59 5.82 6.52 7.2 7.57 6.96 8.4 7.9 7.71
引用半衰期 6.76 7.13 7.43 7.04 9.35 8.7 8.75 9.55 8.26 6.91
期刊他引率 0.85 0.78 0.83 0.86 0.93 0.89 0.87 0.88 0.91 0.86
平均引文率 3.6 2.5 2.5 2.5 4.4 4.3 5.9 5.4 5 4.9

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